光刻機全球龍頭 ASML 在美國的銷售額連續(xù) 3 年下降，與此形成鮮明對比的是，同期 ASML 在韓國和中國臺灣地區(qū)的銷量增幅高達(dá) 3 倍，證明美國對半導(dǎo)體生產(chǎn)基礎(chǔ)設(shè)施的投資不足。

　　據(jù) ETNews 報道，ASML 占全球光刻機市場的 84%，并獨家供應(yīng)先進(jìn)工藝所需的 EUV 光刻機。引進(jìn)其設(shè)備的數(shù)量會影響半導(dǎo)體生產(chǎn)能力，因此其銷售額能夠被用于衡量各地區(qū)對半導(dǎo)體設(shè)備投資情況。

　　財報顯示，2019 年到 2021 年，ASML 在美國的收入下降了約 20%。從 2019 年的 19.8 億歐元，到 2020 年和 2021 年分別減少到 16.57 億歐元和 15.83 億歐元。

　　同期，ASML 在亞洲的銷售額顯著增長。在主要的半導(dǎo)體生產(chǎn)基地韓國，銷售額從 2019 年的 22.02 億歐元增長到 2021 年的 62.23 億歐元，增長了近兩倍。

　　中國臺灣地區(qū)也從 2019 年的 53.57 億歐元增長到去年的 73.27 億歐元，增幅為 37%。這是三星電子和 SK 海力士為擴大尖端微處理能力，引進(jìn)了大量 EUV 光刻機的結(jié)果。臺積電大舉投資半導(dǎo)體設(shè)備，也推動了銷售的增長。

　　在美國禁止出口 ASML 核心設(shè)備 EUV 曝光設(shè)備的中國大陸，其年銷售額也翻了一番，從 2019 年的 13.77 億歐元增至 2021 年的 27.4 億歐元。據(jù)分析，中國大陸購買的光刻設(shè)備比美國還多。除受管制的 EUV 設(shè)備外，主要引進(jìn)了 ArF、KrF、i 線等光刻設(shè)備。

　　ASML 在美國的銷量下降證明，美國在半導(dǎo)體生產(chǎn)基礎(chǔ)設(shè)施方面的投資到目前為止還不夠。到 2020 年，美國缺乏投資半導(dǎo)體晶圓廠的意愿。據(jù)分析，這是因為英特爾宣布進(jìn)入代工領(lǐng)域的時間較晚，以及美光曾經(jīng)對 EUV 設(shè)備持懷疑態(tài)度。

　　隨著美國吸引本國的半導(dǎo)體生產(chǎn)基地，ASML 設(shè)備的引進(jìn)預(yù)計將會加速。英特爾計劃到 2025 年采用 ASML 下一代曝光設(shè)備，美光也正式使用 EUV 設(shè)備。

　　但是半導(dǎo)體業(yè)界預(yù)測，美國的半導(dǎo)體生產(chǎn)能力不會立即超過中國臺灣和韓國。半導(dǎo)體業(yè)界有關(guān)人士表示:“作為 ASML 的主要銷售和核心設(shè)備的 EUV 設(shè)備在中國臺灣為 80 臺，在韓國為 50 臺，與美國存在差距。美國大舉投資不會導(dǎo)致短期產(chǎn)能逆轉(zhuǎn)。”