本報訊 記者陳炳欣報道：近日，全球最大的獨立第三方光掩膜生產(chǎn)商日本凸版印刷株式會社宣布分拆旗下半導(dǎo)體光掩膜業(yè)務(wù)，并與投資基金INTEGRAL合資成立一家新公司“Toppan Photomask”。Toppan Photomask作為凸版印刷的并表子公司，將在母公司的協(xié)助下繼續(xù)拓展半導(dǎo)體用光罩的生產(chǎn)活動。同時，Toppan Photomask也將在INTEGRAL公司的幫助下，加強經(jīng)營管理和公司治理體制，以期今后實現(xiàn)上市。

　　光掩膜是光刻工藝中轉(zhuǎn)移電路圖形的母版，起到光刻機與大硅片的橋梁和紐帶作用。從應(yīng)用領(lǐng)域劃分，光掩膜在半導(dǎo)體、顯示面板、觸摸屏、電路板等生產(chǎn)中均有使用，其中半導(dǎo)體應(yīng)用占比達到60%。

　　隨著AI、5G等技術(shù)的不斷發(fā)展，各種市場的數(shù)字創(chuàng)新正在加速，全球半導(dǎo)體市場也在持續(xù)快速擴張，2021年全球半導(dǎo)體市場規(guī)模達到5560億美元。在全球半導(dǎo)體短缺的背景下，各半導(dǎo)體制造商正在積極提升其生產(chǎn)能力，而光掩膜作為半導(dǎo)體生產(chǎn)中不可或缺的電路母版，全球各地對其需求也空前高漲。

　　凸版印刷表示，由于半導(dǎo)體市場的快速成長，光掩膜市場已經(jīng)迎來轉(zhuǎn)折點，為了不斷擴大和提升業(yè)務(wù)，在洞悉市場環(huán)境的變化和客戶趨勢等情況的同時，更需要在研發(fā)和設(shè)備等方面拓展比以往更加快速靈活的資金投入。在這樣的大環(huán)境下，凸版印刷通過公司分拆將半導(dǎo)體光掩膜業(yè)務(wù)剝離出來，成為獨立企業(yè)個體，可在提高經(jīng)營管理自由度的同時，快速靈活地拓展符合市場需求的投資活動。

　　根據(jù)半導(dǎo)體專家莫大康的介紹，作為半導(dǎo)體制造過程中轉(zhuǎn)移電路圖形底片的高精密工具，光掩膜是半導(dǎo)體制程中非常關(guān)鍵的一環(huán)。隨著摩爾定律的演進，半導(dǎo)體工藝已經(jīng)推進到5納米節(jié)點。由于應(yīng)用在DUV光刻機中的光掩膜很難應(yīng)用到EUV光刻機當(dāng)中。EUV光掩膜的開發(fā)生產(chǎn)仍將是EUV光刻產(chǎn)業(yè)中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。在EUV光刻越來越多地應(yīng)用于先進工藝的情況下，EUV光掩膜市場將呈現(xiàn)持續(xù)增長的態(tài)勢。

　　從產(chǎn)業(yè)鏈上來看，光掩膜行業(yè)的集中度較高。光掩膜生產(chǎn)商可以分為晶圓廠自行配套的工廠和獨立第三方光掩膜生產(chǎn)商兩大類。凸版印刷自1961年開始從事光掩膜業(yè)務(wù)，是當(dāng)前全球最大的獨立第三方光掩膜生產(chǎn)商，大約占有全球32%的第三方市場份額。其在日本、歐美和亞洲（除日本外）等地均設(shè)有生產(chǎn)基地。